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今年以来，ink"光伏产业龙头企业保定天威、海润光伏等名企，由于资金链断裂等原因陷入危机。此外，纽交所对中电光伏等出示黄牌退市警告，全球最大的晶硅技术与设备供应商美国应用材料公司宣布关闭光伏技术
设备投入甚少，只得依赖进口技术来提升制造水平。美国应用材料公司光伏部门的关闭，使得晶硅产业技术升级的可能性微乎其微。国内没有一家企业能够承载类似美国应用材料公司的技术功能。我国在美国资本市场上市的

支持政策相关补贴申报材料(第二批)的通知，全球最大的纳米制造技术巨头应用材料公司关闭太阳能业务，中国大力提倡太阳能和风能全球铜需求瞬间紧张起来~TPO租赁VS贷款：美国分布式光伏融资模式PK，"两个
万亿元信贷支持湖北省新能源十三五规划编制启动 2020年全省装机700万千瓦以上关于受理2015年合肥市光伏产业支持政策相关补贴申报材料(第二批)的通知全球最大的纳米制造技术巨头应用材料

西门子、夏普、三星等工业巨头在光伏战线的大撤退中并不寂寞，越来越多的重量级同行者加入了越来越热闹的溃败大军。全球最大的纳米制造技术企业，美国应用材料公司日前黯然宣告，清仓光伏业务，彻底关闭旗下的
太阳能业务部门。光伏行业资讯提供商PV-Tech报道称，作为全球半导体设备业的一大翘楚，应用材料公司日前决定关闭精密切割系统（PWS）线锯业务，同时停止其Solion离子注入产品的开发。成立于1967年的

领先的半导体设备供应商应用材料(NASDAQ: AMAT)日前向PV-Tech证实，其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务，并且停止其Solion离子注入产品的开发。在给媒体的一份
澄清退出太阳能业务部门的声明中，应用材料指出，其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中，应用材料的首席财务官Robert J. Halliday表示：我们还降低我们的

领先的半导体设备供应商应用材料日前向PV-Tech证实，其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统（PWS）线锯业务，并且停止其Solion离子注入产品的开发。在给PV-Tech的一份澄清
退出太阳能业务部门的声明中，应用材料指出，其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中，应用材料的首席财务官Robert J.Halliday表示：我们还降低我们的运营成本。在（财年

领先的半导体设备供应商应用材料日前向PV-Tech证实，其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统（PWS）线锯业务，并且停止其Solion离子注入产品的开发。在给PV-Tech的一份澄清退出太阳能业务
部门的声明中，应用材料指出，其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中，应用材料的首席财务官Robert J.Halliday表示：我们还降低我们的运营成本。在（财年

领先的半导体设备供应商应用材料(NASDAQ: AMAT)日前向PV-Tech证实，其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务，并且停止其Solion离子注入产品的开发。在给
PV-Tech的一份澄清退出太阳能业务部门的声明中，应用材料指出，其将继续为现有Solion离子注入机客户提供支持。在其此前的收入电话会议中，应用材料的首席财务官Robert J. Halliday

领先的半导体设备供应商应用材料(NASDAQ: AMAT)日前向PV-Tech证实，其将关闭其总部位于瑞士的精密切割系统(PWS)线锯业务，并且停止其Solion离子注入产品的开发。在其
上周的收入电话会议中，应用材料的首席财务官Robert J. Halliday表示：我们还降低我们的运营成本。在(财年)第三季度我们的非GAAP运营成本为5.76亿美元。在(财年)第四季度我们计划

2015年8月13日，加利福尼亚州圣克拉拉--全球领先的半导体、平板显示和太阳能光伏行业材料工程解决方案供应商应用材料公司（纳斯达克：AMAT），公布了其截止于2015年7月26日的2015财年
第三季度调整后的非GAAP每股盈余为0.33美元，同比上升18%；GAAP每股盈余为0.27美元，同比增长13% 2015财年第三季度，应用材料公司实现总订单额28.9亿美元，较2015财年

创新的Olympia系统确立了应用材料公司在原子层沉积技术领域的前沿地位独特的模块化架构可生产出各类高质量ALD薄膜，并且在不牺牲产量的前提下支持关键低温工艺 Olympia系统已被多家芯片
制造商成功用于生产各类逻辑和内存设备应用加利福尼亚州圣克拉拉，2015年7月13日应用材料公司今天宣布推出全新的Olympia原子层沉积(atomic layer deposition, ALD

，2015年7月13日 应用材料公司今天宣布推出下一代刻蚀设备Applied Centris Sym3 刻蚀系统。该系统设有全新的反应腔，可实现原子级精度工艺。为了克服芯片内部特征差异，Centris
Sym3系统超越了现有的蚀刻技术，大幅改善了蚀刻的可控性和精准度，提供给芯片制造商制造先进内存和逻辑芯片的密集型三维结构。 应用材料公司蚀刻业务部门副总裁兼总经理Raman

索比光伏网讯: 创新的Olympia系统确立了应用材料公司在原子层沉积技术领域的前沿地位独特的模块化架构可生产出各类高质量ALD薄膜，并且在不牺牲产量的前提下支持关键低温工艺
Olympia系统已被多家芯片制造商成功用于生产各类逻辑和内存设备应用加利福尼亚州圣克拉拉，2015年7月13日应用材料公司今天宣布推出全新的Olympia原子层沉积(atomic