(反应离子刻蚀法Reactive Ion Etching,RIE)和湿法黑硅技术(金属催化化学腐蚀法metal Catalyzed Chemical Etching,MCCE)等都可以解决金刚线切割的 。2004年,日本京瓷公司引入了干法黑硅RIE多晶制绒技术。在2008年,以韩国公司为代表的设备厂家开始在中国推广干法黑硅RIE技术。湿法黑硅方面,早在2006年,德国的Stutzmann小组即提出
黑硅技术的工艺,能同时兼顾硅片端降本与电池片端提效两方面。目前黑硅技术主要分成干法制绒的离子反应法(Reactive Ion Etching,RIE)技术,以及湿法制绒的金属催化化学腐蚀法(metal Catalyzed Chemical Etching,MCCE)。以现有设备来看,RIE技术因效率提升较高、已有量产实绩等因素较被市场接受,然而其机台价格昂贵,让不少欲进入者踌躇不前。湿法MCCE方面
端降本与电池片端提效两方面。目前黑硅技术主要分成干法制绒的离子反应法(Reactive Ion Etching,RIE)技术,以及湿法制绒的金属催化化学腐蚀法(metal Catalyzed Chemical Etching,MCCE)。以现有设备来看,RIE技术因效率提升较高、已有量产实绩等因素较被市场接受,然而其机台价格昂贵,让不少欲进入者踌躇不前。湿法MCCE方面,虽然机台价格远低于干法制绒
同时兼顾硅片端降本与电池片端提效两方面。目前黑硅技术主要分成干法制绒的离子反应法(Reactive Ion Etching,RIE)技术,以及湿法制绒的金属催化化学腐蚀法(metal Catalyzed Chemical Etching,MCCE)。以现有设备来看,RIE技术因效率提升较高、已有量产实绩等因素较被市场接受,然而其机台价格昂贵,让不少欲进入者踌躇不前。湿法MCCE方面,虽然机台价格远