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为您找到 “刘勇：背面工艺优化是工艺努力方向”相关结果2 个
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综合
刘勇
：
背面
工艺
优化
是
工艺
努力
方向
来源：索比光伏
发布时间：2012-12-14 00:00:00
索比光伏网讯:晶澳太阳能CTO
刘勇
：
背面
工艺
优化
是
工艺
努力
方向
PV技术趋势首先是高效电池片和组件观念的发展，寻求降低系统成本的最佳方法，增加单位面积的发电量；其次是降低材料成本，将硅的消耗量减少变成较薄的硅片
刘勇
：
背面
工艺
优化
是
工艺
努力
方向
国际光伏路线图（ITRPV）为产业指明发展方向
来源：索比光伏
发布时间：2012-04-09 15:28:20
刘勇
预测，随着硅片厚度持续减薄，银浆使用量不断降低等技术完善，电池正面的
工艺
优化
将逐渐达到极限，
背面
优化
将大有作为。
对于未来的成本降低技术
方向
Markus Fischer与
刘勇
都认同硅片厚度的减薄，和银浆使用量的减少甚至被替代将成为降成本的重要
方向
。
光伏产业，SEMI，硅片
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