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SC-1液时结合使用兆声波来清洗可获得更好的效果。二. RCA清洗技术　　传统的RCA清洗技术：所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统　　清洗工序： SC-1 → DHF → SC-2 　　1.
一. 硅片的化学清洗工艺原理　　硅片经过不同工序加工后，其表面已受到严重沾污，一般讲硅片表面沾污大致可分在三类：　　A. 有机杂质沾污：可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。　　B

水，维护甚为简单，故已被广泛采用。（b）强制循环式:热水系统用水使水在收集器与储水箱之间循环。当收集器顶端水温高于储水箱底部水温若干度时，控制装置将启动水使水流动。水入口处设有止回阀以防止夜间水由收集器
农副产品。发展到现代，太阳能的利用已日益广泛，它包括太阳能的光热利用，太阳能的光电利用和太阳能的光化学利用等。太阳能的利用有被动式利用（光热转换）和光电转换两种方式。太阳能发电一种新兴的可再生能源利用方式

生长→切断→外径滚磨→平边或V型槽处理→切片　　倒角→研磨　　　腐蚀--抛光→清洗→包装　　切断：目的是切除单晶硅棒的头部、尾部及超出客户规格的部分，将单晶硅棒分段成切片设备可以处理的长度，切
，通过外径滚磨可以获得较为精确的直径。　　外径滚磨的设备：磨床　　平边或V型槽处理：指方位及指定加工，用以单晶硅捧上的特定结晶方向平边或V型。　　处理的设备：磨床及X－RAY绕射仪