一. 硅片的化学清洗工艺原理 硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类: A. 有机杂质沾污: 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。 B 杂质沾污有两大类: a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。 b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着(尤如“电镀”)到硅片表面。硅抛光片的化学清洗目的就在于要去除这种沾污,一般
NORTH AMERICA INC (US); CUNNINGHAM DANIEL W (US); CREAGER JOSEPH B (US); WOHLGEMUTH JOHN H (US ); WARFIELD DONALD B (US); GARVISON PAUL L (US)
在屋顶上安装太阳能板
KR20060003354
2005-10-15