一. 硅片的化学清洗工艺原理 硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类: A. 有机杂质沾污: 可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。 B 杂质沾污有两大类: a. 一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。 b. 另一类是带正电的金属离子得到电子后面附着(尤如“电镀”)到硅片表面。硅抛光片的化学清洗目的就在于要去除这种沾污,一般
2006-9-25
2007-1-25
EVERGREEN SOLAR INC
包括第IV组 纳米晶的有机太阳能电池
EP1676328
2004-9-23 (US); PIPER MATTHEW B (US); KAMINAR NEIL (US)
太阳能电池材料的蚀刻
WO2005013321
2004-7-19