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式PECVD、管式LPCVD、管式PEALD、管式ALD、管式Diff/Oxide/Anneal。板式设备：板式PECVD、板式Cat-CVD、板式RPD、板式PVD、板式PAR、板式ME。(PPT
膜叠加，把效率进一步推升。第三，创新整合型量产设备-MAR，PAR。不管是蒸镀、PVD还是RPD，设备架构都一样，只有工艺腔体是不同的，所以未来在叠层电池的发展上，只要工艺有需求，我们就可以把两个不同

了一种异质结太阳能电池及其制备方法。本申请可以有效增加RPD与PVD结合设备的正常运行时间以及有效运行时间，增加设备有效产能，降低电池制造成本。制备方法包括如下步骤：对硅基底进行清洗制绒处理;在硅基
底的两个表面分别制备本征非晶硅层;在正面本征非晶硅层上制备N型掺杂层;在背面本征非晶硅层上制备P型掺杂层;采用RPD设备在P型掺杂层上制备背面含铟TCO种子层，利用PVD设备在背面含铟TCO种子层上制备

近日，公司五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备成功下线，并且获得客户FAT验收通过后顺利出货。五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备将对薄膜制备领域产生重大影响。这项革命性的技术整合了RPD、多源蒸镀
光电子学等领域的研究提供了一个强大的装备支撑。五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备具备以下特点：多技术合一该款设备将RPD、多源蒸镀、RF溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种技术相结合，实现了真空环境中的薄膜

形成薄膜，共有三种实现方式，分别为蒸发镀膜、磁控溅射镀膜(PVD)、等离子源镀膜(RPD)。在钙钛矿层制备中，主流使用方法为蒸发镀膜，简称蒸镀法。蒸镀法：将镀膜材料(靶材)放置于腔室中，利用分子泵抽低腔
形成薄膜。RPD法：在真空条件下，通过等离子强产生的等离子体在磁场作用下轰击靶材，靶材升华后沉积至沉底上形成薄膜。真空镀膜法对比资料来源：公司公告，公司官网，中金公司研究部与溶液涂布相比，真空镀膜的

主要供应商为上海德沪和日本东丽等。两台PVD磁控溅射设备：空穴传输层、背电极各一台，价值量合计2000万元，价值量占比~17%;目前市场主要供应商为京山轻机、德国莱宝、梅耶博格、湖南红太阳等。一台RPD反应
需求。根据不同的钝化层材料方案，初步来看大面积选用涂布机制备钝化层;若用盐类材料做修饰层则可能选用蒸镀设备;若用金属氧化物则可能选用RPD或者ALD设备。另一方面，传输层真空镀膜路线亦有诸多变种。背电极

发展。随着国产设备替代比例上升，技术成熟化，预计异质结未来发展前景广阔。Q&AQ1:低温银浆和RPD设备的国产化率如何?a1:低温银浆最早被日本垄断，每公斤成本比传统银浆高2000-3000元。近5年
代替。b1:RPD设备也起源于日本，国内佳捷伟创获得了日本公司的授权，招募许多研发人员，做的比较成功。公司此前也宣布可以为异质结电池提供全套产线。目前国内只有这一家公司在做，但国产化在稳步推进。Q2

透光率、方块电阻的影响，沉积时间对IWO薄膜电导率的影响。01、氧氩比对IWO薄膜透光率的影响真空度抽至1.5×103PA以下，将RPD枪头氩气调至180SCCm保障正常启辉，固定枪头氩气流量Ar2
不变的同时气体总流量也保持不变，氧气流量虽然增加，但氧气的离化减弱，平均到每个氧离子中的能量减弱，从而参与到反应中的氧并没有随着氧气含量的增加而增加。03、沉积时间对IWO薄膜电导率的影响将RPD枪头