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(Heterojunction，HJT)：由两种不同的材料组成，即在晶硅和非晶硅薄膜之间形成PN 结，因此它兼具晶硅电池优异的光吸收性能和薄膜电池的钝化性能。具体是在 N 型晶体硅片正反两面依次沉积厚度为
结构。隧穿氧化钝化接触电池(Tunnel Oxide Passivated Contact，TOPCon)：前表面与 N-PERT 电池没有本质区别，主要区别在于采用超薄二氧化硅(SiO2)隧道层

PERCIUM+电池升级技术，优化了电池的正背面钝化性能和电池长波响应，同时叠加半片电池技术和 11 根主栅结构设计，有效降低电阻损耗，提升电池受光面积，182尺寸PERC电池的平均量产转换效率超过
、线切机等生产及配套设备，形成年产20GW拉晶及切片生产能力。除了硅片项目，早在一个多月前的1月24日晚间，晶澳科技还曾发布公告称，拟在扬州经济技术开发区投资建设电池和组件项目，项目分两期建设

和智能工厂的布局。2020年公司响应行业大尺寸路线的发展要求，在设备产业链中较早、稳定的推出适用大尺寸要求的高产能、兼容性强的多主栅串焊机、无损切割工艺的激光划片机、新型硅片分选机以及烧结钝化一体机，在达到
客户技术要求的同时，可多工艺选配的解决方案也能降低外界环境对客户的不良影响。新能源日益成为推动社会经济发展的新动能，奥特维从2016年开始在锂电行业自动化领域进行探索，自主研发的锂电模组、PACK 智能生产线及锂电池外观分选设备得到了行业内的高度认可。

电池片效率达到24.79%，2021年1月，将该纪录再次刷新到24.90%，创造了新的大面积N型单晶钝化接触电池片效率世界纪录。我国除了在晶硅电池技术方面领先全球外，钙钛矿、有机电池等电池片实验室效率也
高于二季度价格低点38%。EVA胶膜的生产设备及原材料EVA粒子可用于防疫物资生产，2020年防疫物资需求暴涨，使得生产设备及EVA粒子供应紧张，胶膜企业扩产受阻延迟，在下半年需求暴涨的情况下，EVA

，并在20162017年逐渐成为主流电池技术。PERC是对背场做了改进，采用的是背钝化技术和局部背电极的技术方案。晶硅电池的原理比较简单，以晶体硅作为载体，就是硅片以晶体硅为材料，通过扩散的形式
主流趋势。其次是PERT，是一种全扩散背场钝化结构，通常PN结在正面，结构比较简单，是最早的N型电池，是天然的双面结构，双面率可以达到8095%，但是在量产效率和成本上，这两年已经不具备优势

PECVD设备，PECVD全称为等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)，实际是一种钝化/镀膜方式，可以用来沉积不同的薄膜
。在PERC中用来沉积SiNx薄膜与钝化AlOx薄膜，在TOPCon中用来钝化氧化硅薄膜与沉积本征多晶硅薄膜，在HJT中用来沉积非晶硅薄膜，因为沉积的薄膜不同，设备的构成、镀膜速度、投入等存在巨大

，例如PECVD设备，PECVD全称为等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)，实际是一种钝化/镀膜方式，可以用来沉积不同的
薄膜。在PERC中用来沉积SiNx薄膜与钝化AlOx薄膜，在TOPCon中用来钝化氧化硅薄膜与沉积本征多晶硅薄膜，在HJT中用来沉积非晶硅薄膜，因为沉积的薄膜不同，设备的构成、镀膜速度、投入等存在巨大

了设备新需求。例如，在硅片环节，近些年光伏市场金刚线切割已取代了砂浆切割技术，设备更换为金刚线切片机;在电池环节，从传统的铝背场电池(AI-BSF)过渡到新一代常规技术发射极钝化和背面接触
受益于光伏产业链的大举扩产，一些设备铲子股迅速崛起并在资本市场上疯狂掘金。在刚刚过去的2020年，碳中和目标落地，叠加高瓴资本入局，光伏无疑成为资本市场最火爆的板块之一。截至2020年12月30

，电池片厂商开始相继布局具有更高效率，更低衰退率，更高发电量的N型太阳能电池技术，例如隧穿氧化钝化接触电池(TOPCon)，异质结电池(HIT)和背接触电池(IBC)等。与此同时，设备厂商正在布局
PERC处于商业化探索阶段，以试验产能为主，产能放量较少;核心设备供应主要为海外厂商，产线投资成本较高。2015-2017年PERC平均转换效率由量产初期的20.4%提升至2017年的21.3%，电池非硅

2021年底量产有望达到24.8%-25%，叠层电池效率有望突破30%。HJT是十年长周期的好赛道。 HJT战略第一步：研制大产能CVD、PVD，实现整线设备国产化，打通整线工艺，降低CAPEX。迈为进入
2年内，关键设备产能增长3倍，单GW设备投资下降50%，当前1GW设备投资4.5亿不到。目前已实现了PECVD、PVD、印刷测试、自动化、BCS系统的自制，清洗制绒与YAC合作。印刷环节当前受限于浆料

温度场设计实现大面积薄膜沉积的均匀性和稳定性、良好的钝化效果和优异的薄膜性能。 PECVD5500主设备的腔体结构紧凑，载片板采用M6硅片1010布局;节拍完全满足当前高效率的工艺要求，镀膜高度调整带来
继引领高效和超高效HJT的TCO设备新型自主RPD系列之后，捷佳伟创历时一年精心打磨的具有完全自主知识产权的HJT关键工艺设备板式PECVD5500迎来了整备交付客户的日子，给生机蓬勃的光伏行业又