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源，与氧气(或空气)、氢气在高温下反应生成气相二氧化硅和副产物盐酸、次氯酸钠。次氯酸钠是普通家庭洗涤中的氯漂白剂，稀释后可用于新冠病毒肺炎疫情防护场所的大面积消毒，协鑫高科纳米月产1000多吨次氯酸钠
二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内独具特性，有着不可取代的作用，是真正的高精尖产品。该公司通过多晶硅生产中的中间原料四氯化硅为硅

相沉积反应器技术工艺，将三氯氢硅转化为纯度高达99.999999999%的高纯度多晶硅。多晶硅工艺流程来源：美国Hemlock挪威REC REC于1996年12月在挪威成立
生产基地部分扩产项目，其总产能增至8万吨。瓦克多晶硅同时供应电子级和太阳能级客户，电子级客户占比在20%左右。此外，美国产能仍有一定的不稳定性，2017年就因技术缺陷发生氢气爆炸，影响

良好的工作习惯。甲硅烷(SIH4) 1、特性无色气体，有恶臭。易溶于苯，四氯化碳。 2、危险性遇明火、高热极易燃烧，暴露在空气能自燃。与氟、氯等能发生剧烈的化学反应。吸入甲烷蒸气后，引起
PECVD目的在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。镀膜原理光照射在硅片表面时，反射会使光损失约三分之一

状无规则绒面。处理方式区别主要在与单多晶性质的区别。工艺流程：制绒槽→水洗→碱洗→水洗 →酸洗→水洗→吹干。一般情况下，硅与HF、HNO3(硅表面会被钝化)认为是不反应的。当存在于两种混合酸的
体系中，硅与混合溶液的反应是持续性的。二、扩散扩散是为电池片制造心脏，是为电池片制造P-N结，POCl3是当前磷扩散用较多的选择。POCl3为液态磷源，液态磷源扩散具有生产效率较高、稳定性好

面。处理方式区别主要在与单多晶性质的区别。工艺流程：制绒槽水洗碱洗水洗酸洗水洗吹干。一般情况下，硅与HF、HNO3（硅表面会被钝化）认为是不反应的。当存在于两种混合酸的体系中，硅与混合溶液的反应
优点。POCl3在大于600℃的条件下分解生成五氯化磷（PCl5）和五氧化二磷（P2O5），PCl5对硅片表面有腐蚀作用，当有氧气O2存在时，PCl5会分解成P2O5且释放出氯气，所以扩散通氮气的同时

～ 2000nm ，光照加热的温度为 500 ～ 1000℃，光照的时间为 0.1 ～ 10min，氧化气体为氧气、空气、水蒸气中的一种或几种。上述氧化气体中掺入了氯气、无水氯化氢、三氯乙烯中的一种或几种
大大减少表面复合，提升多晶电池的效率。氧化气体中掺入了氯气、氯化氢、三氯乙烯中的一种或几种，会使氧化层中有一定量的氯原子，从而可以减少钠离子沾污，钝化 SiO2中的钠离子的活性，抑制或消除热氧化

优化，大幅提高了多晶硅节能还原炉单炉年产量，为万吨级多晶硅生产线和节能技术提供技术支撑。他表示，目前，还原反应过程气体单套装置处理能力达到45000Nm3/h，多晶硅生产综合电耗小于每公斤75千瓦时
，生产每公斤多晶硅的蒸汽消耗低于30千克。这些综合能源消耗数据代表着我国多晶硅生产技术已达到世界先进水平。在多晶硅生产过程中，会产生四氯化硅等副产物，以往的回收技术难以对副产物进行有效处理，进而容易对

万吨级多晶硅生产线和节能技术提供技术支撑。他表示，目前，还原反应过程气体单套装置处理能力达到45000Nm3/h，多晶硅生产综合电耗小于每公斤75千瓦时，生产每公斤多晶硅的蒸汽消耗低于30千克。这些
综合能源消耗数据代表着我国多晶硅生产技术已达到世界先进水平。在多晶硅生产过程中，会产生四氯化硅等副产物，以往的回收技术难以对副产物进行有效处理，进而容易对环境造成污染。事实上，如果技术得当、处理得好，将相