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为您找到 “<b>硅片<b>清洗<b>技术”相关结果124 个
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综合
单晶炉配件之石英坩埚的选购
来源:索比光伏
发布时间:2007-06-12 22:49:22
工艺
技术
、产品质量都得到了长足的进步:部分替代进口,而且批量出口,国产坩埚在国际市场争得了一席之地。但是应该看到,国产石英坩埚与国外高品质的石英坩埚在工艺
技术
和产品性能方面还有一定的距离
,国内坩埚厂家的标准与国际标准一致。但是,国内坩埚厂家主要列出了A1、Fe、Ca、Cu、K、Na、Li、B等8种杂质含量的指标,而GE标准除这8种元素外还列出了As、Cd、Cr、Mg、Mn、Ni、P、Sb
单晶硅
石英坩埚
光伏太阳能
2007第三届中国太阳级硅材料及硅太阳电池研讨会
来源:索比光伏
发布时间:2007-06-11 11:10:22
/张永安
硅片
自动化
清洗
技术
与装备 10:40-11:00 深圳珈玮实业有限公司 丁孔贤 董事长 光伏组件的质量控制 11:00-11:20 南开大学光电子研究所 耿新华
光伏展会
(二)单晶硅棒、单晶
硅片
加工贸易单耗标准
来源:索比光伏
发布时间:2007-06-10 14:46:18
; 精抛:主要作用改善晶片表面的微粗糙程度,一般去除量1um以下 主要原料:抛光液由具有SiO2的微细悬硅酸胶及NaOH(或KOH或NH4OH)组成,分为粗抛浆和精抛浆。
清洗
:在单晶
硅片
单晶硅 太阳能 光伏
光伏市场
太阳能光伏
技术
——晶体硅太阳能电池及材料
来源:索比光伏
发布时间:2007-06-08 17:19:33
1985年问世,1986年V型槽
技术
又被应用到该电池上,效率突破20%。V型槽对电他的贡献是:减少电池表面反射;垂直光线在V型槽表面折射后以41”角进入
硅片
,使光生载流子更接近发射结,提高了收集效率,对低
%的填充因子和20.8%(AM1.5)的效率。 (B)钝化发射区和背表面电池(PERC):铝背面吸杂是PEsC电池的一个关键
技术
。然而由于背表面的高复合和低反射,它成了限制PESC电池
技术
太阳能 光伏
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