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【干货】高效多晶硅片技术回顾及预测

发表于:2016-06-20 10:44:23     来源:光伏新闻

 

2、高效坩埚

高效坩埚在2013年曾经掀起了一个小高潮,其机理如下图所示。

图5.普通坩埚

图6.高效坩埚

在普通坩底部形核的晶粒生长方向杂乱无序,晶粒之间相互碰撞会产生位错;而高效坩埚底部由于有很多二氧化硅颗粒作作为形核点,会生成大量的小晶粒,小晶粒在生长过程中会有一个相互竞争的过程,位错多的晶粒在生长过程中逐步消失,位错少的晶粒趁势越长越大,最终吞并位错多的晶粒。

个人还是很看好高效坩埚的,其技术进步将带来硅片效率提高,在不久的将来高效坩埚将掀起一个更高的高潮。国内的核晶坩埚重视技术研发,重视创新。其高纯坩埚铁含量在2ppm以下,高效坩埚也一直都在研发中,据说其正在和烟台同立高科新材料股份有限公司合作,共同开发免喷涂高效坩埚。

3.高效氮化硅粉

目前同立占领了国内光伏行业用氮化硅60%以上的市场份额。协鑫GCL80%以上的氮化硅来自同立,每月同立供给协鑫的氮化硅超过了5吨;而晶海洋使用同立的氮化硅的比例甚至接近100%;晶科、韩华等使用同立氮化硅的比例也在60%-80%之间,其它使用比例在50%的企业就不一一例举了。可以说同立氮化硅几乎垄断了国内光伏行业用氮化硅市场,同立能达到如此高的市场占有率,和它产品质量过硬、技术领先分不开关系。

同立董事长花重金从国内铸锭企业挖来了一位技术总监,该技术总监目前正带领同立的研发团队研发高效氮化硅粉和高纯氮化硅粉。高效氮化硅粉其技术原理就是让氮化硅粉在铸锭过程中充当形核剂,类似于目前国内流行的半融法铸锭工艺,半融法铸锭工艺采用碎硅片充当形核剂,而同立正在研发中的高效氮化硅粉喷涂在坩埚上后,利用氮化硅涂层与硅液的不浸润性,通过特殊工艺使高效氮化硅粉起到碎硅片的作用,从而生产出和半融法工艺效率相当的高效硅锭,据说此技术正在实验中。而同立的高纯氮化硅粉已获得了突破,其新产品TS3的铁杂质含量已经做到2ppm以下,目前实验已获得了成功,正在量产转化中。不过,个人更看好高效氮化硅粉,此技术的应用将大大提高高效硅锭的成品率。

图7氮化硅涂层与硅熔体的不浸润性

此文仅代表作者个人观点。

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